Vízgőz lehet az ipari tisztítás jövője
Egy japán kutató olyan vízalapú, vegyszermentes tisztítóeljárást fejlesztett ki, ami az ipari folyamatokban is hasznosítható. A technológiát Toshiyuki Sanada, a Shizouka Egyetem gépészettani osztályának egyik segédprofesszora alkotta meg.
Az eljárással egyszerre fecskendezhetünk vizet és vígőzt a megtisztítani kívánt anyagokra. A vízgőz magas kondenzációs hatása miatt alkalmas mikroszkopikus felületek letakarítására, ezáltal erős mosóhatása van. A technológia lehetővé teszi, hogy apró, pár nanométernyi felületről is karcmentesen lehessen letakarítani az idegen szennyeződéseket.
Az eddigi technikáknál különböző vegyi anyagokra volt szükség ahhoz, hogy fényérzékeny hártyákat, polimereket, és egyéb felületeket egyenként megtisztítsunk. Sanada megoldása azonban lehetővé teszi, hogy egyszerre több réteget is letakarítsunk egyetlen eljárással, így csökkennek a tisztítás költségei is. A mosóhatás ráadásul fokozható, ha elenyésző mennyiségű vegyi tisztítószert adunk a folyamathoz.
Sanada elgondolása alapján ezt a technológiát félvezető eszközök, nyomtatott áramkörök, optikai lencsék, valamint nagy üvegfelületek tisztítására is használhatják. Ezeken kívül gyógyászati eszközök, élelmiszer és otthon található háztartási dolgok takarítására is alkalmas lehet.
A félvezető eszközök gyártási folyamatában nagy szükség van egy olyan készülékre, amely megbízható mosóhatással rendelkezik, nem használ sok vegyi anyagot, és egyszerre több réteget tisztít. Ilyen módon kevesebb takarító berendezésre lenne szükség, amivel a környezetet is kevésbé károsítanák a gyártók.
Az eddigi technikák gyakran használtak ammóniás vizet, sósavat, valamint hidrogén-peroxidot tisztítófolyadéknak a félvezetők előállítása során. Ezek azonban nem bizonyultak elég hatékonynak, újraszennyezték a felületeket, és rengeteg salakanyagot termeltek az eljárás alatt. Egy másik eljárással, a levegőfújásos tisztítással pedig az volt a probléma, hogy a nagy nyomás könnyedén megkarcolta a takarítani kívánt felületeket.
