Miklós
-7 °C
2 °C

Nyújtaná a szilíciumot az Intel

2002.08.19. 17:21
Az Intel a következő generációs processzorait "nyújtott" szilícium alapokon fogja építeni. A nyújtás értelme, hogy az anyag kristályrácsában az atomok egymástól a normálisnál távolabb helyezkednek el, és ezáltal felgyorsulhat az elektronok mozgása.
A CNet beszámolója szerint az Intel ezt a technológiát már a Pentium 4 utódjában, a 90 nanométeres struktúrával épülő Prescott esetében is alkalmazni kívánja. A Prescott kódnevű chip előreláthatólag 2003 második felében kerülhet forgalomba.

Mark Bohr, az Intel Process Architecture igazgatója abból indul ki, hogy a szilícium "nyújtása" révén 10-20 százalékkal sikerül javítani az elektromos áram vezetését. A gyártási költségek ezzel szemben csak két százalékkal növekednek. A nyújtás hatékonyságát nagyméretű tranzisztorok esetében sikerült igazolni, de mostanáig kétséges volt, hogy miniatűr elektronikai elemek esetében is működik.

Öt atom oxid

Az Intel tervei szerint a chipet ezen kívül új szigetelési eljárással készítenék. A szokásos hat helyett hét réteget alkalmaznak, közöttük a szigetelő oxidréteg pedig mindössze öt atom vastagságú lesz. Műszakilag ezeket a chipek már nanotechnológiai elemeknek minősülnek, mert a komponenseik 100 nanométernél kisebb méretűek lesznek, mondta Bohr.

A következő generációs processzorokat kizárólag 300 milliméteres szilicium korongokon gyártják majd. Az oregoni próbaüzem után a tömeges gyártásra előreláthatólag Új-Mexikó államban és Írországban kerül sor.

Egyre sérülékenyebb

A Prescott gyártása során a jelenlegi 130 nanométeres technológia folyamatainak 75 százalékát alkalmazni tudják majd. De a 90 nanométeres eljárás nem lesz gyógyír mindenre. Az így gyártott chipeknél nagyobb eséllyel lehet sérült a finom szigetelőréteg, vagy léphet fel véletlenszerű energiaszivárgás, mondta Bohr.

A 65 nanométeres technológia 2005-ös bevezetése még ennél is nagyobb kihívás lesz. A szigetelő oxidréteg vastagsága például öt atomi réteg alá csökken. A 65 nanométeres generáció lesz az utolsó, melyet a hagyományos litográfiai eljárással tudnak gyártani. 2007-ben a chipgyártóknak át kell állniuk az állami laboratóriumok és magáncégek által közösen kifejlesztett extrém ultraibolya (EUV) litográfiára.

Nászút ajándékba!

Esküvőt tervez? Tervezzen velünk, nyerjen wellness nászutat!

Értékeljen, nyerjen!

Van kedvenc légitársasága? Írja meg véleményét itt!