Az Intel fejlesztőinek sikerült az extrém ultraibolya fény (Extrem-Ultraviolet-Light, EUV) alatt az ipari szabványok szerint elkészíteniük az első litográfiai maszkot. Ezeket a maszkok a még kisebb és gyorsabb mikroprocesszorok gyártásának kulcsát jelentik, kezdve a 0,07 mikronos mérettel. A 13 nanométeres hullámhosszú fényt alkalmazó EUV litográfia a félvezetőiparban szabvánnyá válhat. A chip apró struktúráit jelenleg is fotokémia eljárással maratják a szilícium felületébe, de a fénynek át kell hatolnia a maszkon, hogy a munkadarabot elérje. Az új technológia ehelyett vetíteni fogja a fényt. Az Intel arra számít, hogy 2005/2006-ig a processzorok órajelét sikerül 10 GHz-re emelni.
- Vennék
- Hírek
